近日，工业与信息化部印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》。

  该目录一出，引发国内科技迷一片欢呼，其中的氟化氪光刻机和氟化氩光刻机让人浮想联翩，许多人猜测：难道中国版光刻机已经突破了美国的封锁？

  工业和信息部发布目录的时间点耐人寻味，恰巧在荷兰全面限制向中国出口光刻机之后，无论出于什么目的，中国版光刻机的横空出世对稳定市场具有重大意义。

  一些网友乐观地认为，我们现在有了这两款光刻机，说明中国已经赶上了全球顶级光刻机的水平，中国芯片的春天来了。

  工信部目录公布的两款光刻机实为深紫外线光刻机（DUV），是光刻机家族的中低端产品。

  从数据来看，两款中相对来说更加先进的氟化氩光刻机分辨率大于65纳米，而荷兰阿斯麦尔公司的极紫外线光刻机（EUV）分辨率小于15纳米。

  虽然中国的氟化氩光刻机经多次曝光能制作8纳米芯片，但会造成良品率下降以及成本大幅度上升，阿斯麦尔的EUV已能量产3纳米芯片，正在突破2纳米。

  不过，中国两款DUV光刻机的横空出世仍然具有重大意义，有了DUV光刻机，意味着中国可以量产绝大部分的芯片，不仅能满足国内市场，还可出口赚取外汇。

  台积电前工程师吴梓豪的评价是：在技术指标上，这两款光刻机落后国际主流同水平产品超过15年以上，不过这只是中国的第一代氟化氩光刻机，未来应该还有第二代甚至第三代。

  就在全国网民欢呼DUV量产之际，《德国之声》却将目光瞄准了中国版EUV。

  《德国之声》在报道中声称，中国国家知识产权局披露了一项名为“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利，申请者为上海微电子装备（集团）股份有限公司。

  这项专利主要涉及EUV 光源和光刻设备，其中主要的极紫外辐射发生器最重要的包含腔体、靶材发生器、激光发生器、收集镜、电极板、气控部件等关键部件。

  《德国之声》认为，上海微电子很可能已经突破了EUV核心部件的技术难题，这样一来，中国国产EUV将会在三年内问世，这对阿斯麦尔可不是什么好消息。

  德国科技时政类媒体Telepolis在报道中表示，阿斯麦首席执行官克里斯托弗·福克特对华盛顿封锁中国科技产业的举措十分不满，因为这完全是损人不利己，中国追赶的脚步非常快，他们的技术进步几乎是势不可挡的。

  拥有EUV光刻技术专利意味着掌握了制造7纳米及以下芯片的关键能力，到那时，中国科技最大的一块短板将成功补位，美国的科技封锁彻底失败。

  放眼全球，世界上有几个国能仅凭一国之力硏制出一款百分之百的国产光刻机？就算是中低端，也比被别人掐脖子强百倍千倍。

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